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          微型電子生產用純凈水設備

          2020-08-17 10:16:09

             如今電子行業對水質方面的要求都有所提高,為了能讓水質達到各項標準,必須采用高效的微型電子生產用純凈水設備。但是反滲透膜使用一段時間后會有污染,直接影響反滲透膜的使用時間以及整個設備。

            微型電子生產用純凈水設備處理過程

            沉淀法:以大容積、低流速的自然沉淀方法對水進行預處理,如沉淀池。

            混凝法:利用鐵、鋁、高分子等混凝劑,與水中的雜質通過絮凝和架橋作用生成大顆粒沉淀物,再通過其它設備,予以去除。

            過濾法:將被處理的水,流經裝有特殊過濾材料的裝置,截留水中雜質,予以去除。

            軟化法:采用化學藥劑或陽離子交換樹脂方法,使水中的鈣、鎂、鐵離子去除。

            消毒法:加入藥劑或使用紫外線、臭氧等方法,消除水中的微生物、細菌等。

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            微型電子生產用純凈水設備的安裝步驟

            1、將純凈水主機和預處理系統放置在接近水源和電源的地方。

            2、裝石英砂、活性炭、軟化樹脂等過濾材料。

            3、連接水路:原水泵進水口與水源連接、預濾器出口與主機進口連接,預處理器、主機排水口均用管路連接至下水道。

            4、電路:先將接地線可靠接地,并將隨機所配電源線連接到房間電控箱內。

            5、通入水源、電源,按照“預處理操作說明”的要求按步驟操作,預處理調試操作完成。

            6、使用本機,原水泵開關,撥在自動位置,并旋開停機開關。接通水源、電源,待多級泵口壓力達到壓力控制器設定值時,多級泵啟動工作。多級泵啟動后,調系統壓力在1.0-1.2Mpa。啟動應對RO膜系統進行手動沖洗30分鐘。

            微型電子生產用純凈水設備的維護

            低壓沖洗

            定期對ro裝置進行大流量、低壓力、低ph值的沖洗有利于剝除附著在ro膜表面上的污垢,維持膜性能,或當進水sdi突然升高超過5.5以上時,應進行低壓沖洗,待sdi值調至合格后再開機。

            停運保護

            由于生產的波動,ro裝置不可避免地要經常停運,ro短期或長期停用時必須采取保護措施,不適當地處理會導致膜性能下降且不可恢復。

            短期保存適用于停運15d以下的ro系統,可采用每1~3d低壓沖洗的方法來保護ro裝置。實踐發現,水溫20℃以上時,ro裝置中的水存放3d就會發臭變質,有大量細菌繁殖。因此建議水溫高于20℃時,每2d或1d低壓沖洗一次,水溫低于20℃時,可以每3d低壓沖洗一次,每次沖洗完后需關閉反滲透裝置上所有進出口閥門。

            長期停用微型電子生產用純凈水設備適用于停運15d以上的系統,這時必須用保護液(殺菌劑)充入反滲透裝置進行保護。常用殺菌劑配方(復合膜)為甲醛10%(質量分數)、異噻唑啉酮20mg/l、亞硫酸氫鈉1%(質量分數)。

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